所有文章-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2022-03-26

　　光刻掩膜版的寿命有一个很大的变化范围，通常介于1000-5000个曝光晶圆计数。　　在掩膜版的使用过程中，雾状缺陷是影响掩膜版寿命的主要因素。...

2022-03-15

　　制作光刻掩膜版需要使用相关软件制作版图。　　制作版图时，可以先使用ppt或者其他简单的绘图软件设计pattern，在此基础上，依据具体的图形大...

2022-03-02

掩膜版的制作首先需要提供掩膜基板，常见的掩膜基板有石英和苏打两种材料。光刻过程则需要根据实际图案选择合适属性的光刻胶，以完成曝光、显影。 ...

2022-01-12

光刻掩膜版制作大概分为7个步骤：步骤一、在提供的掩膜基板上涂覆一层光刻胶；步骤二、对步骤一所述光刻胶进行曝光、显影，形成光刻胶图案；步骤...