公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-12-24

　　集成电路设计包括芯片硬件设计和软件协同设计两部分。　　芯片硬件设计包括：　　功能设计→设计描述和行为级验证→逻辑综合→门级验证→布局和...

2021-12-11

光刻工艺掩膜版制造大概分为7个步骤： ① 提供掩膜基板，在基板上涂覆一层光刻胶； ② 对步骤①所述光刻胶进行曝光、显影，形成光刻胶图案； ③ 采...

2021-12-03

　　2003年，光刻掩膜版的90nm工艺的主流光刻技术是193nm准分子激光扫描分布投影光刻机（ArF Scanner），全球的光学光刻机巨头Nikon、ASML和CANON都...

2021-11-26

　　在集成电路制造中，光刻技术是利用光学、化学、物流的一系列反应原理和方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成目标功能图形的工艺技术。...