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任正非:光刻机只是工程制造的问题,花时间就能解决
【2021-07-24】

业内人士分析称,EUV光刻机算得上是有史以来人类所发明的最精密的仪器,不仅重量高达180吨以上,而且光是核心零部件就超过了10万个,更是集合了多国的高精尖技术才研发出来的。M国曾有位工程师说,他为光刻机调整一个零件就花费了整整10年的时间。EUV光刻机的难度可想而知。

所以全球光刻机领域的佼佼者ASML才说:“就算把图纸给你们,你们也不可能造出光刻机”。事实真是如此吗?其实我国早就制造出了90nm的光刻机,28nm的也取得了关键突破。我们国家要想制造出EUV光刻机,就需要集齐光刻机所需高精尖技术的全套人才,这个数字是非常庞大的,所以任正非才说:黄刻机只是工程制造问题,花时间就能解决,中国真正缺的是人才。

其实在华为被断供前,大家都对ASML和台积电不了解,现在算是知道了什么才是芯片的制高点,而会设计芯片只不过是学会了皮毛而已。所以从华为被打压后,国内厂商都开始明白,想要在经济全球化时代脱颖而出,显然离不开自主研发,还有手握核心技术才能够走的更远,才不畏惧别人的“技术封锁”。

现在让ASML意想不到的是,国内在光刻机领域真的在发力了,日前中国电子科技传出好消息,离子注入机取得了重大突破,实行了100%国产化。虽然28nm工艺制程光刻机还没达到国际一流水平,但也是一个重要的信号,就是国内已经在光刻机领域要自主创新,不再依赖进口。

无疑是让国内更多厂商看到了希望,不依靠别人照样能够自主研发,虽然在7nm、5nm工艺制程上与西方还有很大的差距,但是随着国内厂商坚持不懈地投入到自主研发,而全球的“芯片慌”更是给我们营造了“弯道超车”的好时机。

 

转载自腾讯网-云旧时光青池


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