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无 掩膜版 光刻即不采用光刻掩膜版的光刻技术,主要分为两类,即带电粒子无掩膜光刻和光学无掩膜技术。 无掩膜光刻具备分辨率高、成本较低等优势,同时也面临着生产效率低的问题。电子束之间的干扰易造成邻近效应,...
光刻板和 光刻掩膜版 没有区别。 光刻掩膜版是光刻工艺中重要的材料之一,业内又称光罩版,掩膜版,光刻版。在传播中又形成了光刻板这个名称,实际没有区别。 ...
光刻掩膜版 的寿命有一个很大的变化范围,通常介于1000-5000个曝光晶圆计数。 在掩膜版的使用过程中,雾状缺陷是影响掩膜版寿命的主要因素。随着光刻波长的变化,受雾状缺陷影响的光刻版比例可高达20%。因...
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