邮箱地址:sales@mask-making.com
联系电话:153 0156 0529
制版电话:0512-62996316
高精掩膜版
行业应用
IC(集成电路)行业专用光学掩膜版
产品概述:可提供多种尺寸和规格的IC行业专用光刻掩模版,提供石英和苏打3~14 inch的基材光掩模,制作精度覆盖0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工艺节点(node),最小图形制作高达0.5um,制作精度+/-0.03um,同时,公司可提供专业的Pellicle Remount(重贴膜)服务,覆盖ASML,NIKON,CANNON等主流光刻机类型
光学器件、编码器等行业专用光学掩膜版
产品概述:可提供多种尺寸和规格的光学器件、编码器等不同行业光学掩模版,常见基材厚度为2.3mm;3.0mm;4.8mm;7.8mm; 尺寸大小有:3-12inch 400*400 420*530 420*450 450*550 508*609 620*720 609*711 mm,或可根据客户的需求进行加工定制
FPC/MEMS(线路版、电子传感器)行业光学掩模版
产品概述:公司具有专业可靠的图形设计、处理转换软件和经验丰富的设计团队,并提供多种产品尺寸规格,常见的产品基材厚度有2.3mm 3.0mm 4.8mm 常规尺寸有:228.6*228.6  350*350 457.2*406.4 450*550 508*609等规格,或可按照客户需求尺寸进行定制
LCD(液晶显示器)行业专用光学掩模版
产品概述:可提供多种尺寸和规格的LCD、STN、CF行业光学掩模版,常见基材厚度为2.3mm;3.0mm;4.8mm;几种; 尺寸大小有:420*530 420*450 450*550 508*609 620*720 ,或可根据客户的需求进行加工定制;最小图形达2um以上,图形精度提供+/-0.5um +/-1um +/-2um +/-3um 不同精度规格供客户选择
Touch panel(触摸屏)行业专用光掩膜基版
产品概述:可提供多种尺寸和规格的触摸屏光学掩模版,常见基材厚度为2.3mm;3.0mm;4.8mm;7.8mm几种; 尺寸大小有:420*530 420*450 450*550 508*609 620*720 609*711 830*1190 850*1200 mm,或可根据客户的需求进行加工定制;图形精度提供+/-0.5um +/-1um +/-2um +/-3um 不同精度规格供客户选择
新闻中心
掩膜版脏了怎么洗
掩膜版清洗常用的方法是使用氢氧化钾溶液进行冲洗,然后再在掩膜版光学检测设备中进行检查,检查结果不合适后再次投入氢氧化钾溶液进行二次清洗,而过检查结果依旧不合格,再次重复清...
公司新闻 2021-06-15
  • 制作光刻掩膜版用什么设备?
    公司新闻 2021-05-28
    制作一块 光刻掩膜版 并不仅仅是一台光刻机就能完成的,而是需要一整条完整的产线。 首先是在 掩膜版基板 上覆盖一层材料,覆盖的材料包含乳胶、铬等材料;接下来就是进行光刻步骤,硅...
  • 光刻掩膜版的用途?
    公司新闻 2021-05-24
    掩膜版有多个名称,也称作光刻掩膜版、光罩、光刻版、掩膜基板、光掩模等等,是用来制作掩膜图形的面板,常在芯片制作过程中使用,是图形转移的工具。...
  • 光刻掩膜版检验标准
    公司新闻 2021-05-20
    光刻掩膜版的检验主要分为外观检验以及尺寸测量。...
  • 光刻掩膜版是属于什么材料
    公司新闻 2021-05-11
    掩模版制作的材质常见有石英玻璃,苏打玻璃等。...
常见问题
  •  掩膜版是否可以鉴定做过光刻?

      用XRF看表面的元素成分,CHO的含量很高的话,就肯定用过了,但这样检测的费用高。如果担心污染,建议把掩模版洗一遍。

  •   做微米级的一个条状图形掩模板大概多少钱?

      做版的价格和图形尺寸的大小以及复杂程度有关,并且与版的大小也有关系;市场上几百到一两千,不同的地方价格不一样也很正常。

  • 正性光刻胶和暗场掩膜版区别?

    最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液; 负胶经曝光显影后不溶与显影液 同样一块mask, 正胶和负胶曝光显影后图形是相反的。

力士乐 | 大连发电机组出租 | 三坐标 | 研磨棒 | 家电线束加工 | 旋转码垛机 | 微纳加工 |