掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩模基版制作-硅时代

IC（集成电路）行业专用光学掩膜版

产品概述：可提供多种尺寸和规格的IC行业专用光刻掩模版，提供石英和苏打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆盖0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工艺节点...

产品概述：可提供多种尺寸和规格的光学器件、编码器等不同行业光学掩模版，常见基材厚度为2.3mm；3.0mm；4.8mm；7.8mm；尺寸大小有：3-12inch 400*400 420*530　420*450　450*550　...

产品概述：公司具有专业可靠的图形设计、处理转换软件和经验丰富的设计团队，并提供多种产品尺寸规格，常见的产品基材厚度有2.3mm　3.0mm　4.8mm 常规尺寸有：228.6*228.6　　350*35...

产品概述：可提供多种尺寸和规格的LCD、STN、CF行业光学掩模版，常见基材厚度为2.3mm；3.0mm；4.8mm；几种；尺寸大小有：420*530　420*450　450*550　508*609　620*720　，或可根据...

产品概述：可提供多种尺寸和规格的触摸屏光学掩模版，常见基材厚度为2.3mm；3.0mm；4.8mm；7.8mm几种；　尺寸大小有：420*530 420*450　450*550　508*609　620*720　609*711...

常见问题

问掩膜版是否可以鉴定做过光刻？

答用XRF看表面的元素成分，CHO的含量很高的话，就肯定用过了，但这样检测的费用高。如果担心污染，建议把掩模版洗一遍。

问做微米级的一个条状图形掩模板大概多少钱？

答做版的价格和图形尺寸的大小以及复杂程度有关，并且与版的大小也有关系；市场上几百到一两千，不同的地方价格不一样也很正常。

问正性光刻胶和暗场掩膜版区别？

答最主要的区别就是正胶经曝光显影后可溶与显影液; 负胶经曝光显影后不溶与显影液同样一块mask, 正胶和负胶曝光显影后图形是相反的。

问掩膜版是否可以鉴定做过光刻？

答用XRF看表面的元素成分，CHO的含量很高的话，就肯定用过了，但这样检测的费用高。如果担心污染，建议把掩模版洗一遍。