产品概述：可提供多种尺寸和规格的IC行业专用光刻掩模版，提供石英和苏打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆盖0.13um,0.18um,0.25um,0.35um,0.5um及以上芯片工艺节点（node），最小图形制作高达0.5um，制作精度+/-0.03um，同时，公司可提供专业的Pellicle Remount(重贴膜)服务，覆盖ASML，NIKON，CANNON等主流光刻机类型

产品概述：可提供多种尺寸和规格的光学器件、编码器等不同行业光学掩模版，常见基材厚度为2.3mm；3.0mm；4.8mm；7.8mm；　尺寸大小有：3-12inch 400*400 420*530　420*450　450*550　508*609　620*720　609*711　mm，或可根据客户的需求进行加工定制

产品概述：公司具有专业可靠的图形设计、处理转换软件和经验丰富的设计团队，并提供多种产品尺寸规格，常见的产品基材厚度有2.3mm　3.0mm　4.8mm　常规尺寸有：228.6*228.6　　350*350　457.2*406.4　450*550　508*609等规格，或可按照客户需求尺寸进行定制

产品概述：可提供多种尺寸和规格的LCD、STN、CF行业光学掩模版，常见基材厚度为2.3mm；3.0mm；4.8mm；几种；　尺寸大小有：420*530　420*450　450*550　508*609　620*720　，或可根据客户的需求进行加工定制；最小图形达2um以上，图形精度提供+/-0.5um　+/-1um　+/-2um　+/-3um　不同精度规格供客户选择

产品概述：可提供多种尺寸和规格的触摸屏光学掩模版，常见基材厚度为2.3mm；3.0mm；4.8mm；7.8mm几种；　尺寸大小有：420*530　420*450　450*550　508*609　620*720　609*711　830*1190　850*1200　mm，或可根据客户的需求进行加工定制；图形精度提供+/-0.5um　+/-1um　+/-2um　+/-3um　不同精度规格供客户选择