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2022-09-23

光刻是芯片设计中的重要技术。它具体是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的一种技术。那光刻工艺对 掩膜版 的质量要求:精...

2022-09-09

金属 掩膜版 是半导体领域必不可少的工具,目前国内主要生产金属掩膜版的公司有深圳市鸿浚通科技有限公司;南京澄超光电科技有限公司;湖南省鸿宇通光...

2022-08-25

正性光刻胶一般在使用过程中都简称为正胶,在显影液中,光刻胶的溶解度是非常高的。行业内普遍认为正性光刻胶具有更好的对比度,生成的图形也具有更好...

2022-08-16

在 光刻掩膜版 的工艺中,我们知道在光刻胶的下面是要被刻蚀形成图案的底层薄膜,倘若这个底层是反光的,光线就有可能从这个膜层反射而且会损害临近的...
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