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正性光刻胶和暗场掩膜版
【2021-09-03】

  光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶,在做工艺时,使用正性光刻胶,光刻掩膜版上透光区域的光刻胶会被显影掉,蒸发金属时透光区域区域留下金属Cr,反之,使用负性光刻胶,光刻掩膜版上不透光区域的光刻胶会被显影掉,蒸发金属时不透光区域区域留下金属Cr。图形不透光,称为亮场掩膜版,图形透光则被称为暗场掩膜版。

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