掩膜版 光掩膜基版 光掩膜 光刻掩膜版
邮箱地址： sales@si-era.com
联系电话：153 0156 0529
制版电话：0512-62996316
当前位置：首页 > 新闻中心 > 公司新闻
正性光刻对掩膜版有何要求
【2022-08-25】

正性光刻胶一般在使用过程中都简称为正胶，在显影液中，光刻胶的溶解度是非常高的。行业内普遍认为正性光刻胶具有更好的对比度，生成的图形也具有更好的分辨率。掩膜版也被称作是光刻版，上面又一层感光材料，使用过程中需要保持掩膜版的洁净。


【返回】
首页
关于我们
联系我们
一键导航