光刻掩膜版的原理，简单来说，就是利用光学-化学反应原理和化学以及物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，从而形成图形；它的原理类似于照相机成相。

半导体技术发展到今天，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级，并且从常规光学技术发展到应用电子束、激光、微离子束、X射线等新技术；使用的波长从4000埃扩展至0.1埃数量级的范围。光刻掩膜版的技术已经成为了一种精密的微细加工技术。