掩膜版的功能：它是制作掩膜图形的理想感光性空白板、用曝光的过程，把图形的信息传递到芯片上，这样来制造芯片。目前掩膜版的作用十分广泛，在涉及光刻工艺的行业均会用到掩膜版，例如：平板显示器、集成电路等。

光刻胶的功能：它是通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等诸多光源的照射及辐射，使得其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶：有光化学敏感性，它经过曝光，显影，刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩模版转移到待加工基片中。