光刻掩膜版中的抗反射层是怎么样的？小编来说一说：

在光刻工艺中，光刻胶的下面是要被刻蚀形成图案的底层薄膜，假设这个底层是反光的，光线很大概率就会从这个膜层反射而且会损害临近的光刻胶，这个损害对线宽控制将会带来不好的影响。鉴于这种现象，我们知道抗反射层涂层有着很强的必要性。

底部的抗反射涂层可以分为两种：邮寄抗反射涂层、无机反射涂层。把这两者相比较，有机抗反射涂层反而更容易被去除。顶部的抗反射涂层由于不吸收光，通常可以是作为一个透明的薄膜干涉层，通过光线间的相干相消来消除反射。