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光刻工艺对掩膜版的质量要求
【2021-07-24】

用以制作掩模版的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃,苏打玻璃等。石英玻璃:是超低膨胀系数的玻璃,热膨胀系数非常小,石英玻璃同样在深UV和近深UV区域内有很高的穿透系数,但是石英玻璃的价格也较为昂贵;苏打玻璃:热膨胀系数较高,需要根据不同的光刻机及曝光参数进行特殊的修调,优点是价格低廉,常用于低端光刻版。

 

苏州硅时代电子科技有限公司(Si-Era),集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体,并根据客户不同应用场景合理推荐高性价比光刻版,强大的生产力可实现三天交付,客户提供质量更优,价格更廉,制版更快的贴心服务。


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