用以制作掩模版的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃，苏打玻璃等。石英玻璃：是超低膨胀系数的玻璃，热膨胀系数非常小，石英玻璃同样在深UV和近深UV区域内有很高的穿透系数，但是石英玻璃的价格也较为昂贵；苏打玻璃：热膨胀系数较高，需要根据不同的光刻机及曝光参数进行特殊的修调，优点是价格低廉，常用于低端光刻版。

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