光掩膜基版工序是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，用来承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的重要载体。

在微纳(MEMS)加工过程中，光掩模版被定义为在一次曝光中能把图形转移到整个硅片中（或另一张光掩模版上）的工具。    

掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成,而基板分为树脂基板和玻璃基板。

在实际应用过程中制作掩模版的掩膜基板需要内部及两表面都无缺陷。同时与光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。

常用制作掩模版的材质有石英玻璃，苏打玻璃等。

根据遮光膜种类的不同，可以分为硬质遮光膜和乳胶。

而光掩膜按用途分类可分为四种：分别为铬版(chrome)、干版、液体凸版和菲林。其中，铬版精度最高，耐用性更好，铬是最广泛应用的材料，它以溅射或蒸发的方式淀积到圆片上。尽管溅射铬比蒸发铬的反射性强，但用抗反射膜可以弥补。抗反射膜包含一层薄的（200A）的Cr2O3，从而降低反射率。 铬版广泛应用于平板显示、IC、印刷线路板和精细电子元器件行业；干版、液体凸版和菲林主要用于中低精度LCD行业、PCB及IC载板等行业。