掩膜版，又称作光刻版、光罩、光掩膜版，英文名称PHOTOMASK，材质有石英玻璃、苏打玻璃、菲林版等，通过真空镀膜形成铬及铬的氧化物光遮蔽层，再通过激光或电子束光刻的方法在遮蔽层上形成所需的精密图案，主要是应用于集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件等行业。

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