在光刻掩膜版使用的过程中，存在不同的损伤可能性，比如光刻掩膜版的铬层脱落，铬层表面有擦伤，灰尘及细小颗粒，静电放电等等。

　　避免光刻掩膜版上的灰尘颗粒，一般采用保护膜，一个非常薄的透光膜来进行光刻掩膜版的表面保护。保护膜的厚度需要达到一定要求，做的非常薄，这样保证透光性，保护膜的质量也要过关，需要足够的解释，能够清洗不变形不脱落，性能上还要求保护膜在长时间的曝光下能够不变形。

　　贴膜的光刻掩膜版可以使用去离子水进行清洗，这样可以使膜上的大多数颗粒被清洁掉。