光刻掩膜版，也通常称为掩膜板，它是我们在微纳加工技术中常用的光刻工艺中使用的图形的母版。

通常对掩膜版的基本求如下：

（1）精度高：图形尺寸准确，符合设计要求，且不发生畸变。

（2）套刻准：应当保证整套掩模版中的各个次版能依次套住，套准误差尽量小。

（3）反差强：图形黑白域之间的反差要高，一般要求在2.5以上。边缘光滑，无毛刺，过渡区要小（即“黑区”应尽可能陡直地过渡到“透明区”）。

（4）耐磨损：版面平整、光洁、无针孔和划痕，坚固耐用且不易变形。