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电子束光刻技术又被称为电子束曝光,这种工艺是利用电子束,在已经进行过清洗、涂胶的硅片或者其他衬底上直接进行图形绘制或投影复制图形的技术,因为曝光系统是直接产生图形的,所以不需要掩膜版呢。
光刻掩膜版的性能指标
光刻对掩膜版的要求是什么?