光刻掩膜版的寿命有一个很大的变化范围，通常介于1000-5000个曝光晶圆计数。

　　在掩膜版的使用过程中，雾状缺陷是影响掩膜版寿命的主要因素。随着光刻波长的变化，受雾状缺陷影响的光刻版比例可高达20%。因此，控制掩膜版使用和保存环境对保护掩膜版寿命有很重要的作用。