掩膜版也被称作是光刻版，用于光刻过程中，光刻是半导体制造过程中的关键接部分，也是流程造价最高的一部分。

比较常见的光掩膜版种类有四种，分别是铬版、干版，凸版、液体凸版四种，光掩膜版主要的构成部分主要是分为两类，一个是基板，一个是不透光材料。基板通常都是由石英玻璃制作而成。