掩膜版 光掩膜基版 光掩膜 光刻掩膜版
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光刻工艺对掩膜版的质量要求

2021-07-24

用以制作 掩模版 的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃，苏打玻璃等...
中芯国际为什么非要买EUV光刻机？

2021-07-24

所有的DUV光刻机，用的光源都是193nm波长的ArF excimer laser，之前的一代DUV，用的光源是248nm波长的KrF excimer laser。另外，EUV光刻机的光源，是...
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