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2021-12-24

  集成电路设计包括芯片硬件设计和软件协同设计两部分。   芯片硬件设计包括:   功能设计→设计描述和行为级验证→逻辑综合→门级验证→布局和...

2021-12-11

光刻工艺 掩膜版 制造大概分为7个步骤 : ① 提供掩膜基板,在基板上涂覆一层光刻胶; ② 对步骤①所述光刻胶进行曝光、显影,形成光刻胶图案; ③ 采...

2021-12-03

  2003年, 光刻掩膜版 的90nm工艺的主流光刻技术是193nm准分子激光扫描分布投影光刻机(ArF Scanner),全球的光学光刻机巨头Nikon、ASML和CANON都...

2021-11-26

  在集成电路制造中,光刻技术是利用光学、化学、物流的一系列反应原理和方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成目标功能图形的工艺技术。...
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