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2021-07-24

目前 掩膜版 清洗常用的方法是使用氢氧化钾溶液进行冲洗,然后再在掩膜版光学检测设备中进行检查,检查结果不合适后再次投入氢氧化钾溶液进行二次清洗...

2021-07-24

光刻掩膜版 的制作最重要的设备就是光刻机,光刻机英文名称Mask Aligner,又名光刻系统、曝光系统等,它采用激光直写的方式,在光刻掩膜版上面进行图...

2021-07-24

目前 光刻掩膜版 的等级规格主要以尺寸、精度、以及基板材料为维度进行划分。 光刻掩膜版 常用的的基板材料有石英玻璃和苏打玻璃,石英玻璃热膨胀系数...

2021-07-23

光刻掩膜版 加工最小尺寸? 光刻版加工尺寸有多种,不同行业常用尺寸也不同。 IC(集成电路)行业专用光刻掩膜版,常用石英和苏打3~14 inch的基材光掩...
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