所有文章-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-07-24

光刻掩膜版制作流程步骤如下：　　步骤1、提供掩膜基板，在掩膜基板基板上涂覆一层光刻胶；　　步骤2、对所述光刻胶进行曝光、显影，形成光刻胶图...

2021-07-24

用以制作掩模版的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃，苏打玻璃等...

2021-07-24

光掩膜基版工序是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，用来承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的重要载体。在微纳(MEMS)加工过程中，光掩模版...

2021-07-24

掩模版制作的材质常见有石英玻璃，苏打玻璃等。石英玻璃：热膨胀系数非常小，在深UV和近深UV区域都有很高的穿透系数，但是石英玻璃的价格也较为昂贵...