公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2021-09-03

　　光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶，在做工艺时，使用正性光刻胶，光刻掩膜版上透光区域的光刻胶会被显影掉，蒸发金属时透光区域区域留下金属C...

2021-08-20

　　步进式光刻掩膜版的材料是石英，因为石英掩膜版使用在深紫外光刻中使用，石英基材的热膨胀系数非常小，所以在温度改变时间也是相对稳定的，而且...

2021-08-02

光刻掩模版主要由两个部分组成，不透光材料与掩模基板。光刻版也被称作铬版，就是指在苏打玻璃或石英玻璃上通过溅射的方式镀一层铬层，铬层就是不透...

2021-07-28

在制作芯片的过程中，需要经过很多次光刻，可能十几次光刻，甚至几十次光刻，每进行一次光刻工艺，就需要一块光刻掩膜版，掩膜版的质量将会直接影响...