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正性光刻胶和暗场掩膜版
2021-09-03
光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶,在做工艺时,使用正性光刻胶, 光刻掩膜版 上透光区域的光刻胶会被显影掉,蒸发金属时透光区域区域留下金属C...
步进式光刻掩膜版
2021-08-20
步进式 光刻掩膜版 的材料是石英,因为石英掩膜版使用在深紫外光刻中使用,石英基材的热膨胀系数非常小,所以在温度改变时间也是相对稳定的,而且...
光刻掩膜版透不透光的影响
2021-08-02
光刻掩模版 主要由两个部分组成,不透光材料与掩模基板。光刻版也被称作铬版,就是指在苏打玻璃或石英玻璃上通过溅射的方式镀一层铬层,铬层就是不透...
制作芯片需要几块光刻掩膜版
2021-07-28
在制作芯片的过程中,需要经过很多次光刻,可能十几次光刻,甚至几十次光刻,每进行一次光刻工艺,就需要一块 光刻掩膜版 ,掩膜版的质量将会直接影响...
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