公司新闻-掩膜版,光刻掩膜版,光掩膜,光掩膜基版制作-硅时代

2022-10-14

光刻掩膜版的原理，简单来说，就是利用光学-化学反应原理和化学以及物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，从而形成图形；它的原理类似...

2022-09-23

光刻是芯片设计中的重要技术。它具体是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的一种技术。那光刻工艺对掩膜版的质量要求：精...

2022-09-09

金属掩膜版是半导体领域必不可少的工具，目前国内主要生产金属掩膜版的公司有深圳市鸿浚通科技有限公司；南京澄超光电科技有限公司；湖南省鸿宇通光...

2022-08-25

正性光刻胶一般在使用过程中都简称为正胶，在显影液中，光刻胶的溶解度是非常高的。行业内普遍认为正性光刻胶具有更好的对比度，生成的图形也具有更好...