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2022-07-06

光刻是通过特定的生产步骤,将晶圆表面薄膜的特定部分去除的工艺,需要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、...

2022-06-28

光刻掩膜版 清洗一般使用掩膜版清洗液,是有专门的额清洗机器的。首先将掩膜版放入掩膜版清洗机一边冲洗一边旋转,将污染颗粒冲洗干净,之后在高速旋...

2022-06-21

光刻是一门比较综合的技术,它采用照相复印的技术,将光刻 掩膜版 上的图形复制在涂有光刻胶的金属蒸发层上。如果掩膜版受光刻胶污染,很大程度上会影...

2022-06-10

相位 掩膜版 是一种表面刻蚀光栅,基底材料为熔融石英的掩膜版,它可以作为精确的衍射光学元件,目前已在多家单位取得广泛应用。 相位掩膜版的制造涉...
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